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n型晶體硅/p型非晶硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池的研制

發(fā)布時(shí)間:2012年3月21日 來(lái)源:

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  3.2背電場(chǎng)對(duì)HIT太陽(yáng)電池性能的影響


  背場(chǎng)是用來(lái)提高太陽(yáng)電池效率的有效手段,背場(chǎng)即在電池的背面接觸區(qū)引入同型重?fù)诫s區(qū),指的是可對(duì)光生少子產(chǎn)生勢(shì)壘效果的區(qū)域,從而減少光生少子在背表面的復(fù)合。


  圖6所示為有、無(wú)背場(chǎng)的HIT太陽(yáng)電池的QE響應(yīng)和IV特性曲線(xiàn)。從圖中可以看出背場(chǎng)能有效增加電池的長(zhǎng)波段響應(yīng),加入背場(chǎng)的電池在背面有很低復(fù)合速率,將能增強(qiáng)低光子能量處的光譜響應(yīng),因此短路電流密度將增加。由于短路電流增加,背面接觸的二極管復(fù)合電流減少,從而開(kāi)路電壓增加,能有效提高電池的轉(zhuǎn)換效率。

 

 

有、無(wú)背場(chǎng)的HIT太陽(yáng)電池的QE響應(yīng)和IV特性曲線(xiàn)


  3.3優(yōu)化后的HIT太陽(yáng)電池


  在上述研究的基礎(chǔ)上,對(duì)單面HIT太陽(yáng)電池各沉積參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,得到了開(kāi)壓為596mV、短路電流密度為41.605mA/cm2、填充因子為0.676、效率為16.75%的HIT電池,其卜V特性曲線(xiàn)如圖7所示,測(cè)試在模擬光源AMl.5,25℃下進(jìn)行。

 

 

優(yōu)化后的HIT太陽(yáng)電池


  4小結(jié)


  本文通過(guò)研究不同硅表面鈍化方法,分析測(cè)試HIT太陽(yáng)電池制備過(guò)程中硅片表面的一些鈍化技術(shù)對(duì)少數(shù)載流子壽命以及對(duì)電池性能的影響,發(fā)現(xiàn)適當(dāng)?shù)腍F溶液預(yù)處理、20s的襯底H處理和插入約3nm的本征非晶硅層能有效提高硅片的少子壽命,通過(guò)飽和硅片表面的懸掛鍵,可以降低少數(shù)載流子在表面的復(fù)合,從而得到較好的表面鈍化效果。研究了在硅襯底背面制作背場(chǎng)后電池的光照特性,發(fā)現(xiàn)在硅片背面引入重?fù)诫s背場(chǎng)提高了電池的長(zhǎng)波段光譜響應(yīng)和開(kāi)路電壓。對(duì)電池的各制備工藝進(jìn)行綜合優(yōu)化,研制出了效率為16.75%(AMl.5,25℃)的HIT太陽(yáng)電池。(原作者: 柳琴, 葉曉軍等)

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