常見(jiàn)酸性蝕刻廢液電解處理的困擾 酸性氯化銅蝕刻工藝為現(xiàn)時(shí)電路板行業(yè)中常用的蝕刻工藝,其蝕刻廢液的主要成分為氯化銅、氯化亞銅、鹽酸及其他氯化鹽等,銅離子濃度通常為120 g/L左右.目前業(yè)界對(duì)此蝕刻廢液的處理方法為收集后統(tǒng)一交給危險(xiǎn)化學(xué)廢物回收公司進(jìn)行處理,也有部分電路板生產(chǎn)廠家使用電解法自行處理. 在現(xiàn)有電解回收工藝過(guò)程中,其陰極板上產(chǎn)生的金屬銅可被回收利用,而陽(yáng)極板上所析出的大量有毒氯氣則幾乎無(wú)法有效地被循環(huán)回用到蝕刻生產(chǎn)線上,只能作外排處理.無(wú)法真正實(shí)現(xiàn)循環(huán)再用的環(huán)保工藝要求.其次,為了在電解過(guò)程中使其電解液盡量能夠吸收更多氯氣,唯有僅靠降低蝕刻液的氧化還原電位不惜犧牲蝕刻生產(chǎn)效率來(lái)實(shí)現(xiàn)目的,這種工藝方法是不可取的.
本發(fā)明涉及一種堿性氯化銅蝕刻廢液提銅回收利用的方法，從堿性氯化體系含銅蝕刻廢液直接電解脫銅及再生工業(yè)方法，堿性氯化體系含銅蝕刻廢液采用直接電解銅方式、脫銅后液與收集吸收后的氨氣及電解銅洗滌水調(diào)配至標(biāo)準(zhǔn)再生堿性氯化體系蝕刻液。本發(fā)明采用以陰極板獨(dú)立循環(huán)速度高電流密度進(jìn)行電解沉積銅，電流效率高，電耗低，銅板質(zhì)量達(dá)到國(guó)家一號(hào)標(biāo)準(zhǔn)陰極銅，易兌現(xiàn)，使得堿性氯化體系蝕刻液恢復(fù)蝕刻活性；對(duì)內(nèi)部揮發(fā)出的氨氣進(jìn)行全密閉進(jìn)行補(bǔ)集吸收，補(bǔ)充再生蝕刻液的堿性；對(duì)銅板上附著的有效鹽進(jìn)行合理的比例調(diào)配到上述兩種循環(huán)液中，進(jìn)一步使得內(nèi)部所有的有效化學(xué)物質(zhì)穩(wěn)定循環(huán)利用。