【污染物排放】：

半導(dǎo)體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點(diǎn)。揮發(fā)性有機(jī)廢氣主要來源于光刻、顯影、刻蝕及擴(kuò)散等工序，在這些工序中要用有機(jī)溶液（如異丙醇）對(duì)晶片表面進(jìn)行清洗，其揮發(fā)產(chǎn)生的廢氣是有機(jī)廢氣的來源之一；同時(shí)，在光刻、刻蝕等過程中使用的光阻劑（光刻膠）中含有易揮發(fā)的有機(jī)溶劑，如醋酸丁酯等，在晶片處理過程中也要揮發(fā)到大氣中，是有機(jī)廢氣產(chǎn)生的又一來源。與半導(dǎo)體制造工藝相比，半導(dǎo)體封裝工藝產(chǎn)生的有機(jī)廢氣較為簡(jiǎn)單，主要為晶粒粘貼、封膠后烘烤過程產(chǎn)生的烘烤廢氣

【控制要求】：

半導(dǎo)體制造工藝中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機(jī)物成分。在工藝過程中，這些有機(jī)溶劑大部分通過揮發(fā)成為廢氣排放。目前，有機(jī)廢氣排放處理措施采用大風(fēng)量低濃度，其處理一般采用吸附濃縮技術(shù)、等離子光解技術(shù)、或UV光解技術(shù)等等。

【工作原理】

本設(shè)備是等離子分解廢氣凈化器+UV光解除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的完美結(jié)合，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)組合而成，利用等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)相結(jié)合，對(duì)廢氣和臭氣進(jìn)行高效協(xié)同凈化處理！

（1）廢氣和惡臭氣體進(jìn)入集成設(shè)備后，經(jīng)過UV紫外光束區(qū)時(shí)，被紫外光波高能高效率地照射，瞬間產(chǎn)生光解反應(yīng)，打開廢氣和臭味污染物分子的化學(xué)鍵，破壞其分子結(jié)構(gòu)和核酸；利用高能紫外光波分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O 等。 UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。

（2）廢氣和惡臭氣體經(jīng)過等離子體電場(chǎng)區(qū)，在納秒級(jí)時(shí)間范圍內(nèi)，等離子猛烈轟擊廢氣和臭味等污染物分子，產(chǎn)生裂變分解反應(yīng)，產(chǎn)生高濃度、高強(qiáng)度、高能量的各種活性自由基、高能電子、高能離子等，同時(shí)產(chǎn)生大量臭氧、原子氧、生態(tài)氧等混合氣體，進(jìn)行一系列復(fù)雜的分化裂解和氧化還原反應(yīng)。

（3）UV紫外光解與等離子分解如此高效協(xié)同地產(chǎn)生一系列光解和分解反應(yīng)，經(jīng)過復(fù)合式多級(jí)凈化后從而達(dá)標(biāo)排放！既能安全高效地凈化治理各種有害廢氣，又能高效干凈地去除各種惡臭味道。